GVC-2000磁控离子溅射仪

主要参数

外形尺寸

424（L）×345（D）×420（H）

输入电源

220V/800W

可用靶材

所有金属、部分化合物

靶材尺寸

φ57mm

真空室

高硅硼玻璃 φ200×130mm

工作介质

高纯氩气（≥4N）

低真空泵

旋片泵

抽速

1.1L/s

高真空泵

进口涡轮分子泵

抽速

90L/s

极限真空

≤5×10-3Pa

工作真空

0.1-3Pa

溅射电流

5-200mA 可调

溅射时间

1-999s 可调

样品台

φ125mm

样品台转速

4-20rpm 可调

显示屏

7 英寸  TFT 彩色触摸屏

抽气节拍

≤5 分钟

进气

全自动

放气

全自动

预溅射

具备预溅射挡板，全自动控制

保护功能

过流保护、真空保护、分子泵过热保护等

膜厚仪

（选配）

可实时显示镀膜厚度，并通过设定来控制镀膜过程，最优测量精度

0.1nm，单次镀膜设定范围 1-999nm，最大测量范围 10μm

其它

可根据用户需要，提供定制化产品